本實(shí)用新型屬于真空鍍膜機(jī)設(shè)備領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，本實(shí)用新型涉及一種用于真空鍍膜機(jī)的真空室。
背景技術(shù)：
濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場(chǎng)的作用下，對(duì)陰極靶材表面進(jìn)行轟擊，把靶材表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來(lái)，被濺射出來(lái)的粒子帶有一定的動(dòng)能，沿一定的方向射向基體表面，在基體表面形成鍍層。
目前真空腔體內(nèi)部靶材濺射是無(wú)法杜絕的現(xiàn)象，對(duì)靶材濺射出的靶材材料的有效吸附的最大面積為真空腔體內(nèi)部表面和遮擋板，由于長(zhǎng)時(shí)間靶材濺射必然會(huì)產(chǎn)生遮擋板表面靶材材料堆積，當(dāng)遮擋板上堆積的靶材材料達(dá)到一定厚度時(shí)，需對(duì)遮擋板進(jìn)行清理；現(xiàn)有技術(shù)中真空腔體內(nèi)部的遮擋板結(jié)構(gòu)為平面形狀，采用平面結(jié)構(gòu)的遮擋板，則平面結(jié)構(gòu)堆積的靶材材料較少，需要頻繁進(jìn)行維護(hù)清理，降低了真空鍍膜機(jī)的利用效率。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本實(shí)用新型的一個(gè)目的是解決至少上述問(wèn)題和/或缺陷，并提供至少后面將說(shuō)明的優(yōu)點(diǎn)。
為了實(shí)現(xiàn)根據(jù)本實(shí)用新型的這些目的和其它優(yōu)點(diǎn)，提供了一種用于真空鍍膜機(jī)的真空室，包括：
真空腔體；
波浪形遮擋板，其可拆卸連接在真空腔體的內(nèi)壁上；
主傳動(dòng)輥，其設(shè)置在真空腔體的下部居中的位置；所述真空腔體的上部左右對(duì)稱設(shè)置放卷輥和收卷輥；
三個(gè)鍍膜靶材，其等距離地放置在主傳動(dòng)輥的外圓周圍，且位于主傳動(dòng)輥的下方。
優(yōu)選的是，所述波浪形遮擋板的在真空腔體的內(nèi)壁的鋪設(shè)面與真空腔體的內(nèi)壁相匹配。
優(yōu)選的是，所述波浪形遮擋板與真空腔體的內(nèi)壁的可拆卸連接方式為采用螺栓連接。
優(yōu)選的是，所述波浪形遮擋板與真空腔體的內(nèi)壁的可拆卸連接方式為：在所述波浪形遮擋板的端部設(shè)置有彎折部，所述真空腔體的內(nèi)壁上設(shè)置有與彎折部相匹配的卡槽，所述卡槽和彎折部相匹配連接以實(shí)現(xiàn)波浪形遮擋板與真空腔體的內(nèi)壁的可拆卸連接。
優(yōu)選的是，所述真空腔體上設(shè)置有用于連接真空抽氣機(jī)組的抽氣孔和用于連接充氣系統(tǒng)的充氣孔。
優(yōu)選的是，還包括導(dǎo)向輥，其設(shè)置在真空腔體內(nèi)，且導(dǎo)向輥分別位于主傳動(dòng)輥與放卷輥之間、主傳動(dòng)輥與收卷輥之間。
本實(shí)用新型至少包括以下有益效果：本實(shí)用新型將真空腔體內(nèi)部的遮擋板設(shè)置為波浪形遮擋板，其有效增加了擋板的整體面積，讓擋板能更好、更多的吸附靶材材料，減少保養(yǎng)次數(shù)，從而增加設(shè)備有效生產(chǎn)時(shí)間。
本實(shí)用新型的其它優(yōu)點(diǎn)、目標(biāo)和特征將部分通過(guò)下面的說(shuō)明體現(xiàn)，部分還將通過(guò)對(duì)本實(shí)用新型的研究和實(shí)踐而為本領(lǐng)域的技術(shù)人員所理解。
附圖說(shuō)明：
圖1為本實(shí)用新型的用于真空鍍膜機(jī)的真空室的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為本實(shí)用新型的另一種用于真空鍍膜機(jī)的真空室的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3為本實(shí)用新型的波浪形遮擋板的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式：
下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明，以令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說(shuō)明書(shū)文字能夠據(jù)以實(shí)施。
應(yīng)當(dāng)理解，本文所使用的諸如“具有”、“包含”以及“包括”術(shù)語(yǔ)并不排除一個(gè)或多個(gè)其它元件或其組合的存在或添加。
圖1～3示出了本實(shí)用新型的一種用于真空鍍膜機(jī)的真空室，包括：
真空腔體1；
波浪形遮擋板2，其可拆卸連接在真空腔體1的內(nèi)壁上；
主傳動(dòng)輥3，其設(shè)置在真空腔體1的下部居中的位置；所述真空腔體1的上部左右對(duì)稱設(shè)置放卷輥4和收卷輥5；
三個(gè)鍍膜靶材6，其等距離地放置在主傳動(dòng)輥3的外圓周圍，且位于主傳動(dòng)輥6的下方。
在上述技術(shù)方案中，在真空腔體中將被鍍基材從放卷輥經(jīng)過(guò)主傳動(dòng)輥后收到到收卷輥上，將真空腔體抽到一定的真空度，充入工作氣體，啟動(dòng)真空鍍膜機(jī)的鍍膜控制電源，使三個(gè)鍍膜靶材進(jìn)行反應(yīng)濺射，當(dāng)通過(guò)主傳動(dòng)輥、放卷輥和收卷輥連續(xù)傳送的被鍍基材通過(guò)該三個(gè)鍍膜靶材的濺射區(qū)域時(shí)，在其上就沉積了膜層；濺射到真空腔體內(nèi)的靶材被波浪形遮擋板吸收；通過(guò)在真空腔體內(nèi)部設(shè)置波浪形遮擋板，其有效增加了擋板的整體面積，讓擋板能更好、更多的吸附靶材材料，減少保養(yǎng)次數(shù)，從而增加設(shè)備有效生產(chǎn)時(shí)間，例如，以1000mm*800mm遮擋板為列，更改為波浪形擋板后，理論上能夠增大25％的擋板面積；假如遮擋板進(jìn)行5次/月保養(yǎng)，而每次保養(yǎng)需3h，現(xiàn)在增加25％的擋板面積，一月就能節(jié)省3*5*25％＝3.75h的保養(yǎng)時(shí)間；如果設(shè)備以0.8m/min的速度運(yùn)轉(zhuǎn)，能多增加0.8*225＝180m的產(chǎn)品生產(chǎn)；如果設(shè)備以1.2m/min的速度運(yùn)轉(zhuǎn)，能多增加1.2*225＝270m的產(chǎn)品生產(chǎn)。
在上述技術(shù)方案中，所述波浪形遮擋板2的在真空腔體的內(nèi)壁的鋪設(shè)面與真空腔體的內(nèi)壁相匹配，采用這種方式，可以更大面積的吸收濺射靶材，且不會(huì)使真空腔體內(nèi)的空間減少。
在上述技術(shù)方案中，所述波浪形遮擋板與真空腔體的內(nèi)壁的可拆卸連接方式為采用螺栓8連接，采用這種方式，可以方便的對(duì)波浪形遮擋板進(jìn)行拆卸和安裝。
在上述技術(shù)方案中，所述波浪形遮擋板2與真空腔體1的內(nèi)壁的可拆卸連接方式為：在所述波浪形遮擋板2的端部設(shè)置有彎折部21，所述真空腔體1的內(nèi)壁上設(shè)置有與彎折部相匹配的卡槽11，所述卡槽11和彎折部21相匹配連接以實(shí)現(xiàn)波浪形遮擋板與真空腔體的內(nèi)壁的可拆卸連接，采用這種方式，可以更方便的對(duì)波浪形遮擋板進(jìn)行拆卸和安裝。
在上述技術(shù)方案中，所述真空腔體1上設(shè)置有用于連接真空抽氣機(jī)組的抽氣孔13和用于連接充氣系統(tǒng)的充氣孔14。
在上述技術(shù)方案中，還包括導(dǎo)向輥7，其設(shè)置在真空腔體1內(nèi)，且導(dǎo)向輥7分別位于主傳動(dòng)輥3與放卷輥4之間、主傳動(dòng)輥3與收卷輥5之間；采用導(dǎo)向輥可以對(duì)被鍍基材進(jìn)行導(dǎo)向，使其準(zhǔn)確的在真空腔內(nèi)運(yùn)轉(zhuǎn)。
盡管本實(shí)用新型的實(shí)施方案已公開(kāi)如上，但其并不僅僅限于說(shuō)明書(shū)和實(shí)施方式中所列運(yùn)用，它完全可以被適用于各種適合本實(shí)用新型的領(lǐng)域，對(duì)于熟悉本領(lǐng)域的人員而言，可容易地實(shí)現(xiàn)另外的修改，因此在不背離權(quán)利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本實(shí)用新型并不限于特定的細(xì)節(jié)和這里示出與描述的圖例。
技術(shù)特征：
1.一種用于真空鍍膜機(jī)的真空室，其特征在于，包括：
真空腔體；
波浪形遮擋板，其可拆卸連接在真空腔體的內(nèi)壁上；
主傳動(dòng)輥，其設(shè)置在真空腔體的下部居中的位置；所述真空腔體的上部左右對(duì)稱設(shè)置放卷輥和收卷輥；
三個(gè)鍍膜靶材，其等距離地放置在主傳動(dòng)輥的外圓周圍，且位于主傳動(dòng)輥的下方。
2.如權(quán)利要求1所述的用于真空鍍膜機(jī)的真空室，其特征在于，所述波浪形遮擋板的在真空腔體的內(nèi)壁的鋪設(shè)面與真空腔體的內(nèi)壁相匹配。
3.如權(quán)利要求1所述的用于真空鍍膜機(jī)的真空室，其特征在于，所述波浪形遮擋板與真空腔體的內(nèi)壁的可拆卸連接方式為采用螺栓連接。
4.如權(quán)利要求1所述的用于真空鍍膜機(jī)的真空室，其特征在于，所述波浪形遮擋板與真空腔體的內(nèi)壁的可拆卸連接方式為：在所述波浪形遮擋板的端部設(shè)置有彎折部，所述真空腔體的內(nèi)壁上設(shè)置有與彎折部相匹配的卡槽，所述卡槽和彎折部相匹配連接以實(shí)現(xiàn)波浪形遮擋板與真空腔體的內(nèi)壁的可拆卸連接。
5.如權(quán)利要求1所述的用于真空鍍膜機(jī)的真空室，其特征在于，所述真空腔體上設(shè)置有用于連接真空抽氣機(jī)組的抽氣孔和用于連接充氣系統(tǒng)的充氣孔。
6.如權(quán)利要求1所述的用于真空鍍膜機(jī)的真空室，其特征在于，還包括導(dǎo)向輥，其設(shè)置在真空腔體內(nèi)，且導(dǎo)向輥分別位于主傳動(dòng)輥與放卷輥之間、主傳動(dòng)輥與收卷輥之間。
技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于真空鍍膜機(jī)的真空室，包括：真空腔體；波浪形遮擋板，其可拆卸連接在真空腔體的內(nèi)壁上；主傳動(dòng)輥，其設(shè)置在真空腔體的下部居中的位置；所述真空腔體的上部左右對(duì)稱設(shè)置放卷輥和收卷輥；三個(gè)鍍膜靶材，其等距離地放置在主傳動(dòng)輥的外圓周圍，且位于主傳動(dòng)輥的下方；本實(shí)用新型將真空腔體內(nèi)部的遮擋板設(shè)置為波浪形遮擋板，其有效增加了擋板的整體面積，讓擋板能更好、更多的吸附靶材材料，減少保養(yǎng)次數(shù)，從而增加設(shè)備有效生產(chǎn)時(shí)間。
